新型測定装置がもたらす光学素子の高精度測定技術の進化

新たな光学素子測定技術の革新

最近、産業技術総合研究所の研究チームが開発した新型の測定装置が、光学素子の高精度測定に革命をもたらす可能性があります。この装置は、曲面ミラーの形状を非接触で、しかもわずか2ナノメートルの精度で測定することができるのです。これにより、半導体の微細加工や、生体分子に関するナノメートルスケールの構造観察が一層進化すると期待されています。

技術的背景

極端紫外線（EUV）露光装置や放射光施設では、高精度な曲面ミラーが必要不可欠です。これらの装置の性能は、ミラーの形状精度に大きく依存しており、そのための正確な形状把握が求められます。従来の方法では、曲面ミラーの絶対的な形状を測定することは難しかったのです。そこで、産業技術総合研究所の研究チームは、曲面上の角度を非接触かつ高精度に測定する新しい技術を開発しました。

新型測定装置の特徴

この新型装置は、局所的な角度分布を測定し、そこから絶対的な形状を算出することができます。この装置には、自己校正型ロータリーエンコーダー（SelfA）が組み込まれており、角度目盛りの誤差を自動で補正することが可能です。この機能により、広範囲にわたって高精度な測定が実現されています。実際に、曲率半径5メートルの曲面ミラーを測定した際には、測定結果の標準偏差が0.46ナノメートルであり、1ナノメートル未満での安定した計測ができることが確認されました。