#データセンター #技術開発 #省電力化

データセンターの省電力化セミナー開催概要

2025年12月5日（金）に、多くの業界関係者が注目する「データセンター省電力化の技術開発動向」セミナーが開催されます。このセミナーは、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）及び筑波大学の専門家が講師として参加し、データセンターの今後に向けた重要な技術開発トレンドについて解説を行います。

セミナーの目的

電力を大量に消費するデータセンターは、特にAI技術の普及に伴い、その電力需要が急激に増加しています。この問題の解決には、新しい省電力技術の導入が不可欠です。本セミナーでは、これらの技術に関する最新情報を提供し、参加者が次世代のデータセンター管理に役立つ知識を習得できる機会を提供します。

講師陣紹介

安藤 俊氏（NEDO 次世代グリーンデータセンター技術開発プロジェクトマネージャー）

安藤氏は、NEDOが推進する省電力化プロジェクトの概要や今後の計画について詳しく説明します。特に、光エレクトロニクス技術や省エネ化技術の開発について、その具体的な成果を紹介し、実用化に向けた展望を示します。

岩室 憲幸氏（筑波大学 数理物質系教授）

岩室氏は、GaN（窒化ガリウム）パワーデバイスの技術動向について解説します。従来のシリコンMOSFETに代わるこの新しい材料がなぜデータセンターに適しているのか、その理由と共に、未来のパワーデバイス市場についても掘り下げていきます。

日時と参加方法

• - 日時: 2025年12月5日（金）午後1時～3時30分
• - 会場: 紀尾井フォーラム（東京都千代田区紀尾井町4-1 ニューオータニガーデンコート1F）
• - 受講方法:

- 会場受講
- オンライン（Zoomウェビナー）
- アーカイブ配信（2週間視聴可能）

セミナー内容

1. データセンター省電力化プロジェクトの解説（安藤氏）

• - NEDOについての紹介
• - 次世代グリーンデータセンター技術開発プロジェクトの概要
• - 電力消費削減に向けた研究開発の課題と展望

2. GaNパワーデバイスの技術動向（岩室氏）

• - 現在のパワーデバイス市場の分析
• - GaNデバイスの先進性と利点
• - シリコンとの比較と未来展望

参加者は、講義後に質疑応答や名刺交換の時間も設けられており、ビジネスネットワーキングの機会も提供されます。

まとめ

データセンターの電力消費を削減するためには、革新的な技術の導入が求められています。このセミナーは、参加者に対して最新の技術動向や実地の経験を基にした有益な情報を提供し、持続可能な社会に向けた一歩を踏み出すきっかけとなることでしょう。皆様のご参加をお待ちしております。

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