キヤノンのナノインプリント技術、地球環境大賞で最高位受賞！

2023年、キヤノンの「ナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術」が第33回地球環境大賞で最高位の賞を受賞しました。この賞は、環境問題への対応や持続可能な社会の実現に向けた企業の取り組みを称えるものです。

最先端技術による半導体製造

近年、AIや5G技術の普及により、デジタル社会は急激に進化しています。これに伴い、スマートフォンやパソコンなどで必要とされる半導体デバイスの需要はかつてないほど高まっています。半導体デバイスの製造には、回路を非常に細かく描写する「微細化」が求められ、これを支えるのがリソグラフィ技術です。

キヤノンは、従来の投影露光技術から一新したNIL技術を用いて、世界初の半導体製造装置を実用化しました。この装置、FPA-1200NZ2Cは、ウエハー上の樹脂にナノレベルのマスクを使用して回路パターンを形成します。この新しいアプローチにより、製造プロセスの効率と精度が大幅に向上しています。

環境への配慮

半導体製造は多くのエネルギーを消費し、その電力の削減は持続可能な社会を構築するための大きな課題です。NIL技術は、光源の波長に依存せずに微細なパターンを形成できるため、従来の技術に比べて消費電力を約10分の1にまで抑えることが可能です。また、現像工程が不要であるため、廃液などの排出削減にも寄与します。