貝印が主催する2025年の帽子デザインコンペ、優秀作品が発表される

KAI Hat & Head-piece Competition 2025

2025年11月6日に、東京都渋谷区のShibuya Sakura Stageで開催された「KAI Hat & Head-piece Competition 2025 最優秀賞授賞式」で、大倉小枝さんの作品『流動』が見事最優秀賞を受賞しました。このコンペティションは、グローバルな刃物メーカーである貝印株式会社が主催し、4回目を迎えました。

コンペティションの概要

これまでの40年以上の歴史を持つ貝印は、裁縫ハサミの製造をもとに、今年から帽子とヘッドピースのデザインコンペティションを実施。著名な審査員として、フランス国家最優秀職人章の称号を持つ日爪ノブキ氏、ファッションデザイナーの田中文江氏、ヘアメイクアップアーティストの奈良裕也氏、高評価のデザイナーの栗原亮氏を招待し、質の高い審査を行いました。

コンペのテーマは「越境」で、多くの応募作品の中から選ばれた30作品が8月の一次審査を経て、実際に制作された帽子が競い合いました。本イベントでは、入選・優秀賞・審査員特別賞・最優秀賞が発表され、その結果が注目を集めました。

最優秀賞と審査員特別賞の発表

最優秀賞に選ばれた大倉小枝さんは「制作過程で多くの方に助けられ、保護者の応援にも感謝しています。このような素晴らしい審査員に選ばれることができて、嬉しい限りです」とコメント。審査員特別賞には、チェンシィー恵蒔ルイースさんの『開花』が選ばれ、彼女は「私は学生で、作品を作る過程で不安だったが、満足のいくものができた」と言葉を寄せました。

審査員からの評価

審査員たちからは、特別賞を受賞した作品に対して高い評価が寄せられました。日爪氏は「制作過程を知り驚き、完成度の高さに惹かれました」と語り、奈良氏も「学生作品とは信じられないクオリティで、強い世界観が伝わってきた」と述べました。

最優秀賞の大倉作品については、田中氏が「流動感がある美しい作品でした。すべての角度から見ると、その繊細さが際立って感動しました」と絶賛。また、鈴木氏も「作品のストーリーと技術力の高さを感じた」と高く評価しました。

今後の展示会と期待

最優秀作品と特別賞作品は、2025年11月7日から10日まで、Shibuya Sakura Stageにて開催される貝印のデザイン展「切れ味とやさしさ展」に展示される予定です。今後の展開が非常に楽しみですね。ページウェブにて、詳細情報を随時更新していく予定です。

まとめ

このコンペティションは、単なるデザインコンペを超え、新時代のファッションに対する価値観を考えさせる素晴らしい機会となっています。貝印が手掛けるこのイベントは、未来のファッション界を担う才能の発表の場として、さらなる発展が期待されます。今回は、心温まるお祝いを共にできたことを嬉しく思います。

是非、来年も多くの方々に参加していただき、更なるレベルの向上と多様性のあるファッションシーンの創出が進むことを願っています。